多弧离子镀膜设备: 多弧离子镀膜设备是一种高效、无害、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。 真空电弧离子的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术，使沉积粒子细化，膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制......