多弧离子镀膜设备是一种高效、无害、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。 真空电弧离子的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术，使沉积粒子细化，膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制品上进行镀膜，可以镀金......

多功能离子镀膜设备： 该系列设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧电子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化脉冲偏压可使沉积颗料细化，膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。经公司技术人员多年专注研发，通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，并开发出整套propower系列计算......