中国陶瓷深加工设备,从“抄袭”到“超”“袭”的蝶变

当时，科达机电、一鼎科技、工科机电等深加工设备企业均重点推出纳米抛光线，在这一批企业的引领下，纳米抛光设备在国内一发不可收拾，以极为迅捷的速度在市场全面扩散，并被越来越多的陶瓷厂争相购买。中国的抛光砖则在装备技术的助力下，迸发出前所未有的市场活力，高光亮度的抛光砖迅速在市面上盛行，市场占有率节节攀升，形成天下一片抛之盛景。这种盛况发展下去，陶业的深加工工厂即“私抛厂”一度盛行不衰，令中国陶瓷砖形成了砖坯厂、“私抛厂”和品牌运行的现代化生产分工合作模式，大大提升了工业化步伐和行业发展速度，建陶史上有名的“白色恐怖”时代，即是这一阶段的产物。

第三篇章 经典部件及核心结构创新，创立后续发展潮流

1992年-2006年，随着磨边机、刮平机、抛光机、干磨机、纳米机的一路诞生并持续提升发展，不断将中国深加工技术推上顶峰的过程中，一批包括“干法磨边”、“八爪鱼粗磨”、“kd268c经典抛光磨头”、“摆动刮平”、“刮平的立铣装置”、“纳米机新型加料法”、“行星式抛磨盘结构”等等一系列设备经典部件与核心结构的创新也是不容忽视的，它们奠定了现代化深加工设备技术后续发展基石。

1998年科达八爪鱼粗磨机的产生，大大提高了刮平效率。这款设备是应用于刮平机和抛光机工序之间的一款设备，该设备可以有效调整砖体表面的平整度，令抛光工序更容易且抛光度更好，是一款有效提高产量的设备。

2005年5月业内针对瓷片等高吸水率产品研发的干法磨边机率先在科达诞生，该设备从一定意义上奠定了后来干法磨和微水磨的基础，亦是后来微水抛光思路的启发者。

2006年一鼎科技亦在国内推出了干法磨边机并推出了第一条下吸尘式干法磨边机，真正解决了陶瓷砖崩边等质量问题，并为干磨机的推广奠定了坚实基础。一鼎科技董事长冯竞浩表示，“干法磨”的想法其实是国外很早就有的，但国外技术一直未能攻克，最后被中国解决了。“干法磨”的诞生，解决了瓷砖在磨边加工工序中坯体吸收水分的问题，因坯体吸收了水分到后续还需要再进行烘干，不仅增加能耗还容易烘不干导致裂砖、湿包装箱、渗污等系列问题。

自干法磨边设备诞生始，继纳米抛光机后，国产深加工设备就又一次提升并奠定了中国深加工技术在世界上的地位，初步完成从“抄袭”到“超”“袭”的华丽蜕变。

2000年，科达研发的kd268c抛光磨头，经过业内的长期对比使用后，逐渐发展为业内通用经典款磨头，称霸行业20年，一直沿用至今仍未被超越。据周祖兵介绍，该磨头采用了公转加摆动和斜盘的结构，其摆动采用凸轮驱动，其切削力更强且工作更稳定、易维修。该磨头的齿轮咬合精度非常高，需要采用数控加工技术才能生产。该磨头的应用，大大提升了抛光效率。在同一时期，广东捷成工推出的斜盘抛光磨头，成为构造上有别于kd268c的另一款创新磨头，也是行业创新点之一。

2004年，为提升刮平机效率和成品率，在刮平机方面出现了中国制式的摆动刮平并加装了立铣装置来解决刮平时瓷砖的边无法挂到的问题。这两项创新，令刮平机可更好的适应大砖的刮平，并有效提升刮平效率和成品率。

2005年，为解决纳米抛光机的纳米液给料问题，一鼎科技率先跨界引入创新，将医院点滴给药时的输液管原理引入了纳米抛光机的给料上，解决了自动喷纳米液容易板结影响喷洒均匀度的问题，令纳米抛光机的高效稳定运行又上一台阶。与此同时，一鼎科技在纳米抛光机上推出的行星式抛磨盘结构，用一个电机带动许多轮子运行的模式，并发明了新型的行星抛磨盘润滑方式，亦为该设备提升了工作效率。这些部件和构造的创新，一直沿用至今时今日。

第四篇章 智能化、节能环保思路，助力深加工阔步向前

2006年至今，深加工设备经历了一个智能化、节能环保和提升产能的创变过程。在这个方向上的一系列创新，助推了深加工技术的阔步向前。

2006年5月，随着科达“333抛光线”的推出，标志着深加工设备走上了节能降耗和增产之路。据悉，该线可使深加工的生产节能30%、降耗30%、增产30%，在当前的能源危机下具有重要的意义。同时，kd333抛光线具有10多项发明和实用新型专利，其中有多项技术均属世界首创。

2007年，科达与蒙娜丽莎合作研制出大规格陶瓷薄板生产技术。在陶瓷装备领域研发方向上，率先开始国内大规格陶瓷薄板生产技术装备的研发：并利用新工艺、新设备成功生产出900×1800×5.5mm的大规格陶瓷薄板。该项目的实施对于改变建陶行业的高能耗、重污染、高耗材的现状，拓展建陶行业新领域具有积极的意义。

2008年7月，科达推出“陶瓷超大规格冷加工设备”。据周祖兵透露，陶瓷大板在深加工领域尤其是抛光设备技术方面有一定难度。“由于陶瓷大板尺寸大了，其需要抛光的表面积增加，在生产线速度不变的情况下，对抛光效率提出了新的要求。如何高效高质地完成更大面积的抛光，是抛光设备在技术层面需要解决的问题。”他表示，即使到今时今日为止，抛光设备最大的宽度是1.6米，国内外都一样。这就意味着，如若生产需要抛光的亮面陶瓷大板，即使是在今时今日的技术情况下，宽度仍无法超过1.6米，长度则不在此列。

2009年3月，科达推出日产10000平方米的高效全抛釉抛光线，将加工产能进一步提升。2012年3月，科达应用“高效节能电机”，这一举措响应了我国的基本国策——节约资源。2013年6月，科达推出内墙瓷片抛光线。该机配置了专为内墙瓷片抛釉而研发的kd261e抛光磨头，能适应有一定的凹凸的砖坯表面的抛光。

2015年一鼎科技推出第一条用于抛光砖的干磨机，将干磨技术从高吸水率的瓷片等产品引入到了低吸水率高硬度的抛光砖领域，尤其将行业内的瓷砖产品纷纷从高吸水率进入低吸水率时代，具有极大行业意义和价值。无水的磨边设备相对于有水设备而言，更耐用，更好保养，其保养费仅为湿磨的10%。同时，在减能耗和减排放（无污水、无污泥）方面具备极大意义，无需干燥窑，无需污水处理池，无需薄膜包装。此外，干磨机磨出的抛光砖粉，可以再进行回收利用，减少了原料的浪费。冯竞浩透露，一条干磨线以一条窑的产量来计算，一年可直接节省成本支出达100万以上。

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